2007年2月29日 美国加利福尼亚州米尔皮塔斯讯——Intersil 公司(NASDAQ：ISIL)今天宣布在中国杭州开设一所新的设计与应用中心。此中心将开发参考设计并为Intesil 公司不断增长的中国区客户及世界各国客户提供系统级应用支持。这个新设计中心正是公司提高在中国市场投资及规模的现行战略的一部分，并将更好的服务于那些采用Intersil公司高性能模拟IC产品进行设计，且数量不断增加的中国公司。
Intersil亚太区销售副总 Kent Chon说：“杭州应用小组将为 Intersil公司在世界范围内的业务提供关键的技术支持，并将帮助我们为我们的中国客户提供更好的‘时实’服务。
此中心将根据包括波形因数、功率要求、首选外设元件、面市时间、价格和其它因素在内的各种规格，为客户提供各种高附加值服务以及Intersil广泛的高性能模拟解决方案
此中心的另一个主要关注点将是与功率联合管理实验室(Joint Power Management Laboratory)即将展开的合作，此实验室同样位于杭州，
于2007年末在浙江大学建成。
Intersil中国应用中心经理黄炯说：“新的应用中心将与浙江大学通力合作进行多种技术的研究，并将聘请其毕业生在杭州或到中国的其它地区工作。与浙江大学的联合将有助于为Intersil公司建立在客服方面的优势。同时还将为学生们提供解决实时产品设计问题的保贵的实践经验。”